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  • 독보적인 유지보수 혁신, 모듈화 설계와 초고효율 버너의 완벽한 조합
    Burn Wet
    GAIA-I SINGLE
    Total Capacity
    1,000 slm
    Target Gas
    PFCs (> 99%), HFCs, etc.
    Target Process
    DIFF, CVD, ETCH, METAL, etc.
    Dimension
    1000X780X1874
  • 탄소중립의 새로운 기준, 차세대 전기 플라즈마 가스정화 기술
    Plasma Wet
    GAIA-P SINGLE
    Total Capacity
    1,000 slm
    Target Gas
    PFCs (> 99%), HFCs, etc.
    Target Process
    DIFF, CVD, ETCH, METAL, etc.
    Dimension
    950X1000X1842
  • 차세대 저탄소 정화 기술 혁신 플랫폼
    Heat-Catalyst Wet
    MiTHAs I
    Total Capacity
    1,000 slm
    Target Gas
    PFCs (> 99%), HFCs, etc.
    Target Process
    ETCH
    Dimension
    900X1100X1950
  • 펌프 일체형의 설치비 절감 혁신
    Integrated Vacuum and Abatement System
    iVAS
    Total Capacity
    1,000 slm * 2 EA
    Target Gas
    PFCs (> 99%), HFCs, etc.
    Target Process
    DIFF, CVD, ETCH, METAL, etc.
    Dimension
    3720X1268X1811
  • 궁극의 초대용량 처리, 6000 CMH의 차원이 다른 정화 솔루션
    Wet
    GAIA GARAM
    Total Capacity
    6,000 CMH
    Target Gas
    RCA Cleaning gas (> 95%)
    Target Process
    Wet Cleaning
    Dimension
    2400X1500X2350
  • 흡수·촉매 기술을 통한 저탄소 친환경 플랫폼
    Wet
    SOOPIA-C
    Total Capacity
    1,000 slm
    Target Gas
    H2<5% (>99%)
    Target Process
    some processes of METAL ETCH
    Dimension
    1600X1100X1870
  • 단순·효율·안전을 동시에 구현한 플랫폼
    Dry
    SDS-500
    Total Capacity
    250 slm
    Target Gas
    Cl2 (> 99%), BCl3
    Target Process
    METAL ETCH, IMPLANT, etc.
    Dimension
    650X590X1750
  • 물 분사 기술로 완성한 지속가능한 가스 처리 플랫폼
    Wet
    SWS-I
    Total Capacity
    1,000 slm
    Target Gas
    Water soluble gas
    Target Process
    Wet Cleaning
    Dimension
    900X750X1795
  • 탄소중립의 새로운 기준, 차세대 전기 플라즈마 가스정화 기술
    Plasma Wet
    GAIA-P DUAL
    Total Capacity
    1,000 slm * 2 EA
    Target Gas
    PFCs (> 99%), HFCs, etc.
    Target Process
    DIFF, CVD, ETCH, METAL, etc.
    Dimension
    1900X1000X1842
  • 설치 효율과 에너지 절감을 동시에 구현하는 기술 혁신
    Burn Wet
    GAIA-EV6
    Total Capacity
    600 slm
    Target Gas
    PFCs (> 99%), HFCs, etc.
    Target Process
    ETCH
    Dimension
    1200X730X1870
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